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硅片厚度和总厚度变化测试方法(GB/T 6618-2009)

2015-02-10 10:03来源:中国新能源网关键词:硅片光伏技术光伏发电收藏点赞

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5.2.3 、定位器

限制基准环移动的装置,除停放装置外,它使探头固定轴与试样边缘的最近距离不能小于6.78mm。基准环的定位见图4。

5.2.4花岗岩平板:工作面至少为305mm×355mm。

5.2.5厚度校准样片:变化范围等于待测硅片标称厚度±0.125mm,约50μm为一档。每个校准样片的表面粗糙度在0.25μm之内,厚度变化小于1.25μm。标准样片面积至少应为1.6c㎡,最小边长为13mm。

6 、取样原则与试样制备

6.1 、从一批硅片中按GB/T2828.1计数抽样方案或双方商定的方案抽取试样。

6.2 、硅片应具有清洁、干燥的表面。

6.3 、如果待测硅片不具备参考面,应在硅片背面边缘处做出测量定位标记。

投稿与新闻线索:陈女士 微信/手机:13693626116 邮箱:chenchen#bjxmail.com(请将#改成@)

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