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太阳能光伏刻蚀清洗设备

2012-05-23 15:43来源:北极星太阳能光伏网关键词:刻蚀太阳能光伏收藏点赞

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4.使用方法

(1)开启等离子刻蚀机电源开关、冷却水开关,开氧气(O2)和四氟化碳(CF4)气瓶开关(两小格即可);

(2)打开射频电源预热20分钟;

(3)将扩散完、待加工的硅片整齐地叠在一起,在最上面、最下面的硅片上加同规格的塑料薄片,用四氟片压好,盖上盖板,平衡拧紧螺丝,(控制好力度,要压紧,但也不要太过用力,以免压碎硅片)放入离子刻蚀机反应室,对准盖好上盖板;

(4)打开机械泵,开主抽,开始抽真空,抽到最低,同时开启氧气和四氟化碳,并按工艺条件调节氧气和四氟化碳的流量比例;

(5)打开射频电源,调节电压到工艺设定条件,真空室开始发出粉红偏白的辉光,再调节C1和C2匹配,使入射功率最大,反射功率最小;

(6)刻蚀设定时间到后,关闭射频电源、氧气和四氟化碳;

(7)继续抽真空,抽到最低,关主抽开充气,反复两至三次;

(8)打开上盖板,取出已去边的硅片,拿开上下塑料薄片,取上、下及中间(每隔10片左右抽一片)的硅片,用万用表检测硅片四个周边电阻值是否符合工艺规范之要求;

(9)工作结束后,把硅片夹放回真空室,开主抽,抽一会儿真空(10秒即可),关主抽,关机械泵,关射频电源和冷却水,关闭氧气和四氟化碳气瓶开关。

5.2.2M42系列等离子体刻蚀机

1.主要用途

M42系列等离子体刻蚀机具有占地面积小、装片容量大、生产率高等优点。同时,还具有手动/自动功能。除装卸片要人工操作外,其余过程实现了全自动,保证了工艺的准确性和重复性,大大地提高了产品质量。该设备主要用于太阳电池周边掺杂硅的刻蚀,也可用于半导体工艺中多晶硅、氮化硅的刻蚀和去胶。

2.工作原理及结构特征

(1)设备的基本结构

光伏设备由反应室、真空系统、送气系统、高频电源、匹配器等部分组成,见图5.5所示。

图5.5等离子体刻蚀机平面安装图

(2)设备系统及工作原理

图5.6为等离子体刻蚀机系统示意图。其反应室采用立式结构,射频功率通过电感耦合到反应室内,保证周边刻蚀均匀。真空系统采用主抽和预抽两路抽气,既能保证本底抽空的时间,又能使气氛扰动减小。送气系统通断气均采用电磁阀控制,工艺气体采用质量流量计控制,可靠性高,重复性好。片架可旋转,提高了刻蚀的均匀性。在泵口有一路稀释气体,它可以延长泵的维护周期和使用寿命,在排气出口加有一路N2可使排放尾气达到排放标准。射频电源的功率采用闭环自动控制,并有阻抗匹配器可保证射频输出功率几乎完全耦合到反应室内。电气控制具有手动/自动控制功能,在手动状态下,可以进行真空检漏,不能进行工艺实验。采用PLC进行工艺自动控制,可靠性高,稳定性好。各电气元器件均采用插装式,便于维修和更换。

图5.6等离子体刻蚀机系统示意图

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