企业档案
企业认证: | ![]() |
所在地区: | 广东 |
主营产品: | 电子化学品,高纯材料 |
收藏此企业 |
联系方式
姓名: | 宋华 |
QQ: | 1205008114 ![]() |
电话: | 0755-82382356 |
手机: | 13590328766 |
邮箱: | 1205008114@qq.com |
推荐企业
产品详情
收藏此产品产品名称:工厂销售电子级三溴化硼
- 型号规格:6N5
- 产品品牌:leadmat
- 关 键 词: 电子级三溴化硼 三溴化硼 高纯三溴化硼
- 设备类型: 光伏生产原材料及辅料供应商 > 硅棒/硅锭生产用原材料 >其它原材料
- 产品单价:面议
- 供 应 商:暂无供应商
- 地 区:广东
- 更新时间:2021-12-10
手机: 13590328766 电 话:0755-82382356
产品说明
电子级三溴化硼
一、分子式:BBr3
二、分子量:250.5
三、理化性质:
三溴化硼具有强烈刺激性臭味,常温下为无色或稍带黄色的发烟液体。相对密度2.64,熔点
四、用途:
电子级三溴化硼用于半导体集成电路、太阳能电池、半导体分离器件等行业中作为P型掺杂源,通过热扩散对晶体硅进行P型掺杂。其次,三溴化硼还是制造高纯硼及其他有机硼化物的原料。
CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /Atomic Layer Depostion )化学气相沉积材料
Dielectrics PMD/IMD |
TEOS ,TEPO,TMPO,TEB,TMB |
Low K Dielectrics |
4MS ,OMCATS |
High K Dielectrics |
TAETO (Ta2O5 Precursor ) TEMAZ (ALD ZrO2 Precursor) TMA (Al2O3 Precursor) |
Metal Gate and Interconnect Metal |
TDMAT (TiN Precursor ) TiCl4 ( Ti /TiN Precursor ) |
Low-Temp Nitride/Oxide |
HCDS |
Diffusion |
POCl3 |
供应半导体化学气相沉积材料,专业研发及制造各种先进CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /Atomic Layer Depostion )化学气相沉积材料,TDMAT / InCl3/TEOS/TMB/TEB Precursor,TDMAT/TiCl4/TMA/TEASAT/InI/InF3/InCl3/High-K/Low-K Material,TEOS,TMB,TEB,TMPO,TEPO,TDMAT,TiCl4等。