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2014-02-28 14:03来源：PV-tech关键词：光伏设备PECVD设备光伏PECVD设备企业收藏点赞
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光伏设备供应商Amtech Systems表示，其已经收到来自韩国和台湾领先的光伏制造商价值约一千万美元的订单。
Amtech表示，多笔订单包括扩散炉和一个用于加工更高效率太阳能电池的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统。
Amtech首席执行官Fokko Pentinga表示：“这些行业领导者反映对太阳能技术解决方案的需求日益提高，并且恢复对新增高生产能力的市场兴趣，以满足以较低的所有权总成本实现更高太阳能电池效率的目标。”
根据该公司，这是第二笔PECVD生产订单，其有潜力翻倍该公司的服务市场。
Pentinga补充道：“我们继续与现有和潜在的新客户讨论我们尖端技术解决方案，包括我们的离子注入系统、N型和PECVD技术。”
Amtech的公告提供另一个关键指标，该行业尽快需要新的产量和新的设备。
NPD Solarbuzz副总裁芬利˙科尔维尔(Finlay Colville)在接受记者采访时表示：“最近订单公告正在表明，目前通过高效电池产量的供求。去年下半年达到组件平等，推动2013年底之前的组件订单。预期下一个重点阶段将是切片阶段。”
科尔维尔指出，Amtech赢得PECVD订单主要考虑该公司过去产生的收入主要来自n型和p型硅片或电池扩散炉设备的销售。
“因此，尽管预测为时尚早，光伏行业PECVD设备的局面可能将发生改变。如果这样，其可能代表对于梅耶博格(Meyer Burger)是一个毁灭性打击，由于其依赖于电池设备收入，而线锯订购依旧疲软，并且对于 Centrotherm也是，由于其开始重组计划。其还间接证实，中国设备制造商在2011年努力进入PECVD领域并不能给予晶硅电池领导者任何支持。”
科尔维尔还指出，Amtech的新PECVD订单还在Orbotech 2013年十二月宣布一千万美元采购其Aurora PECVD设备订单不久后到来，Orbotech在多年的研发和销售努力后进入光伏领域。
科尔维尔补充道：“PECVD设备在历史上一直是电池生产线中最高项目，因此此次拥有这一市场领域的推动力是巨大的。”
Orbotech首席执行官阿什˙莱维(Asher Levy)去年十二月表示，PECVD订单“标志着该公司潜在业务主要补充领域的开始，这一高度创新的技术将开启更多机会。”
等离子体增强化学气相沉积用于钝化和抗反射涂层工艺，是电势诱发衰减(PID)保护的一个关键流程。
Amtech预计未来六个月内按订单出货。
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金辰股份与晋能科技携手合作开发新型HJTPECVD工艺及电池技术。
4月6日，金辰股份发布公告称，中国证监会发行审核委员会当日对公司非公开发行股票申请进行了审核。根据审核结果，公司本次非公开发行股票申请获得通过。据悉，金辰股份此次拟非公开发行不超过3173.38万股股票，募集资金不超过3.8亿元，用于光伏异质结（HJT）高效电池片用PECVD设备项目及补充流动资金。
等离子增强化学气相淀积(PECVD：PlasmaEnhanceChemicalVapourDeposition),在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜，以增加入射在硅片上的光的透射，减少反射，氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。（来源：微信公众号“摩尔光伏”ID：molepv）[$NewPage$][$NewPage$][$NewPage$][$NewPage$][$NewPage$]
5月23日，金辰股份发布非公开发行A股股票预案，拟发行数量不超过3173.38万股，限售期6个月。据了解，本次金辰股份非公开发行募集资金金额不超过3.8亿元，扣除发行费用后的募集资金净额将用于投资年产40台(套)光伏异质结(HJT)高效电池片用PECVD设备项目及补充流动资金。项目投资总额为2.85亿元，其中固
光伏设备专家AmtechSystems(NASDAQ:ASYS)报告，2014年第一季度新订单量以及Amtech第二财季达2150万美元，该公司表示，是三年来最高水平。Amtech表示，第一季度光伏相关新订单为1360万美元，包括二月签订的对于其PECVD设备的生产订单。总订单储备达3100万美元，其太阳能部门储备总计达2050万美元。该公司报告，第一季度净收入为1270万美元，较去年同期提高57%，但是较上季度的1480万美元有所下滑。然而，该公司表示，其乐观认为2014年下半年将迎来更大的产量。Amtech首席执行官FokkoPentinga表示：
PECVD设备为了降低晶体硅太阳电池的效率，通常需要减少太阳电池正表面的反射，还需要对晶体硅表面进行钝化处理，以降低表面缺陷对于少数载流子的复合作用。硅的折射率为3.8，如果直接将光滑的硅表面放置在折射率为1.0的空气中，其对光的反射率可达到30%左右。人们使用表面的织构化降低了一部分反射，但是还是很难将反射率降得很低，尤其是对多晶硅，使用各向同性的酸腐蚀液，如果腐蚀过深，会影响到PN结的漏电流，因此其对表面反射降低的效果不明显。因此，考虑在硅表面与空气之间插一层折射率适中的透光介质膜，以降低表面的反射，在工业化应用中，SiNx膜被选择作为硅表面的减反
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