企业档案
| 企业认证： |  已认证 |
| 所在地区： | 上海 |
| 主营产品： | 德国 Pfeiffer 真空泵，氦检漏仪，分子泵，质谱仪，真空规管，真空阀门及美国Brooks 旗下CTI Cropump 冷凝泵/低温泵， Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源，PLD镀膜机。 |
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联系方式
| 姓名： | 叶女士 |
| QQ： | 暂无QQ |
| 电话： | 021-50463511 |
| 手机： | 13918837267 |
| 邮箱： | ec@hakuto-vacuum.cn |
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产品说明
价格货期电议
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅极. 离子源 KDC 40 适用于所有的离子工艺, 例如预清洗, 表面改性, 辅助镀膜, 溅射镀膜, 离子蚀刻和沉积. 离子源 KDC 40 兼容惰性或活性气体, 例如氧气和氮气. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 40 技术参数：
|
型号 |
KDC 40 |
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供电 |
DC magnetic confinement |
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- 阴极灯丝 |
1 |
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- 阳极电压 |
0-100V DC |
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电子束 |
OptiBeam™ |
|
- 栅极 |
专用, 自对准 |
|
-栅极直径 |
4 cm |
|
中和器 |
灯丝 |
|
电源控制 |
KSC 1202 |
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配置 |
- |
|
- 阴极中和器 |
Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000 |
|
- 架构 |
移动或快速法兰 |
|
- 高度 |
6.75' |
|
- 直径 |
3.5' |
|
- 离子束 |
集中 |
|
平行 |
|
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散设 |
|
|
-加工材料 |
金属 |
|
电介质 |
|
|
半导体 |
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|
-工艺气体 |
惰性 |
|
活性 |
|
|
混合 |
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|
-安装距离 |
6-18” |
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- 自动控制 |
控制4种气体 |
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* 可选: 可调角度的支架 |
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KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域：
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗先生
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