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伯东企业（上海）有限公司
| 企业认证： |  已认证 |
| 所在地区： | 上海 |
| 主营产品： | 德国 Pfeiffer 真空泵，氦检漏仪，分子泵，质谱仪，真空规管，真空阀门及美国Brooks 旗下CTI Cropump 冷凝泵/低温泵， Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源，PLD镀膜机。 |
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联系方式
| 姓名： | 叶女士 |
| QQ： | 暂无QQ |
| 电话： | 021-50463511 |
| 手机： | 13918837267 |
| 邮箱： | ec@hakuto-vacuum.cn |
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产品说明
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上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 最佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下射频离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.
KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:
|
型号 |
RFICP 220 |
|
Discharge 阳极 |
RF 射频 |
|
离子束流 |
>800 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
20 cm Φ |
|
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
10-40 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
|
长度 |
30 cm |
|
直径 |
41 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：
预清洗
表面改性
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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