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多晶硅还原反应的影响因素

2012-07-31 13:25来源:北极星太阳能光伏网(独家)关键词:多晶硅硅棒光伏收藏点赞

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备注:在本篇讨论多晶硅还原反应的影响因素的文章中,有一部分是引用已公开在网上的资料。由于这些资料基本上没有标明作者和出处,因此本文中也未做说明。如有作者发现是引用其著作,因及时反馈以便在文中进行标注。

多晶硅在还原炉内的沉积过程受到众多因素的影响,包括还原炉结构、硅棒布置方式、沉积温度、炉内压力、三氯氢硅和氢气的流量以及二者的配比、停留时间以及硅棒的电流、电压等。这些因素相互制约,相互影响,对多晶硅的沉积质量以及单位产品电耗都有直接的关系。

1、反应温度

SiHCl3被氢气还原以及热分解的反应是吸热反应。所以,从理论上来说,反应的温度愈高则愈有利于反应的进行,此时硅的沉积速率也就越高。温度愈高,沉积速度愈快,达到反应平衡的时间也越短,趋向平衡的程度也越近。

系统含SiHCl3、SiCl4、H2、HCl、SiH2Cl2以及硅粉的组份,在800℃~1400℃之间的吉布斯自由能最小原则进行计算平衡时各组份的平衡量,氢气和TCS的量分别为3kmol/hr和1Kmol/hr。

从图1就可以看出,随着温度升高,达到平衡状态时,系统的硅收率增加,STC降低,H2的耗量明显增加(系统中H2的含量随着温度的升高而降低)。在图1中,当温度升到1150℃之后,TCS的变化趋势和1150℃之前相差不大,但STC的变化却加快。1150℃之后HCl斜率几乎是之前的两倍。

图1 温度对各组分含量的影响

结合下面两反应式(1)和(2),

SiHCl3+H2-→Si + 3HCl - Q ………………………(1)

SiHCl3+3HCl-→SiCl4+ 2H2 + Q ………………………(2)

可以看出,随着反应温度增加,Si和HCl的生成量在增加,氢气的耗量在增加,而SiCl4的生成量在减少。说明温度升高,对(1)有利,对(2)有抑制作用。另外反应(2)从右向左即是SiCl4的热氢化工艺,即反应温度升高,不仅可以增加硅的收率,而且可以抑制三氯氢硅变成四氯化硅。

投稿与新闻线索:陈女士 微信/手机:13693626116 邮箱:chenchen#bjxmail.com(请将#改成@)

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