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晶体硅太阳能光伏电池发射极腐蚀的研究(一)

2012-04-26 14:05来源:北极星太阳能光伏网(独家)关键词:晶体硅太阳能光伏电池收藏点赞

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本文主要介绍HF/HNO3体系腐蚀的基本规律

HF/HNO3腐蚀体系在晶体硅太阳能光伏电池工艺上的应用:酸制绒、去背结和边缘结、背面抛光、选择性发射极电池

图1化学反应

各种反应条件对腐蚀的影响

(1)添加剂的影响:添加乙醇等可以减缓腐蚀速率;添加H2SO4或者H3PO4增加腐蚀的均匀性

(2)硅片表面形貌的影响:表面粗糙的硅片腐蚀速度比光滑的硅片大;多晶晶界刻槽

图2F.Book,S.Braunet.al,2010IEEE

(3)硅片掺杂浓度的影响:腐蚀速率随着掺杂浓度的增加而增加

(4)腐蚀液温度的影响:温度升高,反应速率增大;温度继续身高,反应容易失控

图3腐蚀深度随硅片掺杂浓度的变化曲线

(5)溶液扰动的影响:溶液中有扰动时,对富HF的体系,反应速度减小;对于富HNO3的体系反应速度增大

(6)HF与HNO3配比的影响:抛光和染色

图4抛光-染色反应的“边界”曲线

图5多孔硅poroussilicon

图6不同厚度多孔硅对应的颜色

图7硅片腐蚀深度与多孔硅厚度的关系

图8多孔硅形貌

图9去除多孔硅后的绒面形貌

投稿与新闻线索:陈女士 微信/手机:13693626116 邮箱:chenchen#bjxmail.com(请将#改成@)

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