一. 设备用途：本设备为专利产品，采用电阻加热方式，底部进出料结构。一次装入最多达450Kg/500kg（视坩埚尺寸而定）多晶硅原料，用于多晶硅料的铸锭。

二. 设备特点：

1、       炉底设有防漏硅装置及防爆装置；

2、       温度梯度好，拉出硅棒效果好，杂质少；

3、       炉底升降采用机械传动机构，定向结晶通过炉内升降机构，伺服机构保温罩升降平稳，操作方便

4、      本产品重要部件已获得专利，一种带可升降式保温罩的多晶硅铸锭炉；实用新型200820055740.5；一种带水冷式双电极和软电缆的多晶硅炉；实用新型200820055739.2；发明专利200810033908.7。

三. 技术参数：

1.额定功率：                     200KW  

2.常用温度：                     1500℃     最高温度：1600℃

3.冷态极限真空度：               ＜1Pa 

4.坩埚尺寸：                     870×870×420（L×W×H）mm

5、最大铸锭重量:                 450Kg

6.移动隔热屏最大位移量：         380（mm）

7.移动隔热屏提升速度：           5～100mm/h(可调)